超伝導加速による次世代小型高輝度光子ビーム源の開発

超伝導高周波加速器技術とレーザーパルス蓄積技術の融合によって、軟X線から硬X線領域の光子ビーム（波長5nm〜0.025nm）をつくり出し、かつ10ｍ×６ｍ程度と従来に比べ著しくダウンサイジングをはかった小型高輝度X線発生装置を開発します。
このような装置が登場すれば、ポストゲノム時代の生命科学研究、ナノ構造の解析、創薬、医療診断、マイクロリソグラフィなどでの利用が、質・量ともに大きく飛躍するでしょう。
その実現のためには、「高品質・大強度の電子ビームを発生する装置」、「大強度・高電界な超伝導高周波加速装置」、「高品質の短パルス大強度レーザー蓄積装置」、「ミクロン精度で電子ビームの軌道を制御する技術とレーザー光路を精密調整する技術」などの実用化が必要で、果敢に挑戦していきます。

拠点責任者
浦川 順治
所属：高エネルギー加速器研究機構　加速器研究施設
E-mail：kocb-sec@ml.post.kek.jp（小型高輝度光子ビーム源開発室）
URL：http://kocbeam.kek.jp/